第三代烧结技术,真正解决高功率模块界面热管理

产品摘要:

随着功率密度的要求不断提升,SiC器件渗透率越来越高,芯片高结温对模块热管理提出了极高挑战。如何解决散热,提高系统效率,降低失效率,是制约新能源产业发展的重要课题。大乙铜烧结(注册商标SolidCu™)技术,针对芯片顶部烧结(DIE Attach)和芯片基板烧结(Substrate Attach)开发自有全流程工艺,在大幅度提升烧结性能基础上,降低系统成本。不仅可以让SiC大面积提高渗透率,而且使Si基产品市场大大扩容。


产品介绍

随着功率密度的要求不断提升,SiC器件渗透率越来越高,芯片高结温对模块热管理提出了极高挑战。如何解决散热,提高系统效率,降低失效率,是制约新能源产业发展的重要课题。

大乙铜烧结(注册商标SolidCu™)技术,针对芯片顶部烧结(DIE Attach)和芯片基板烧结(Substrate Attach)开发自有全流程工艺,在大幅度提升烧结性能基础上,降低系统成本。不仅可以让SiC大面积提高渗透率,而且使Si基产品市场大大扩容。


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